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台积电官宣3nm、2nm工艺!等得花儿都谢了

2021-10-20

世纪娱乐报道,近两年来,台积电、三星在先进技术上你追我赶,下一步要比3nm、2nm。

三星先前宣布,3nm3GAE低功率版将在2022年初量产,3nm3GAP高性能版2023年初量产,2nm2GAP将在2025年量产。

台积电首席执行官魏哲近日公开表示,台积电3nmN3将在今年内进行大规模量产,并在2022年下半年实现大规模量产,并在2023年第一季度取得实际收益。

N33nm工艺将是继N55nm之后的全新节点,据说通过密度可以提高70%,在同等功耗下性能提高10-15%,在相同性能下,功率消耗可以减少25-30%,而且使用更多层的EUV光刻(不低于N514层),因此更加复杂,整个工艺过程需要1000多道工序。

N3也将派生出N3E版本,被认为是增强版,具有更好的性能、功耗、高性价比,同时N3在设计和IP上完全兼容,2024年量产。

台积电的N22nm制程一直比较神秘,官方之前仅证实会考虑使用GAAFET(环绕栅极场效应晶体管),但从来没有确定是否真的上马。

根据魏哲公司的最新消息,N2工艺将在2025年量产,并强调不管是综合密度还是性能都是行业中最好的,但是没有给出具体的指标。

此前预期台积电将在2024年量产,而现在节奏也放慢了,基本上与三星同步,就看谁的表现更好了,当然还会有高成本。

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